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ピラゾキシフェン試験法


1. 分析対象化合物
ピラゾキシフェン

2. 装置
電子捕獲型検出器付きガスクロマトグラフ及びガスクロマトグラフ・質量分析計を用いる。

3. 試薬、試液
次に示すもの以外は, 総則の3に示すものを用いる。
凝固液 塩化アンモニウム2g及びリン酸4mlに水を加えて400mlとする。

4. 標準品
ピラゾキシフェン 本品はピラゾキシフェン99%以上を含む。
融点 本品の融点は111〜112°である。

5. 試験溶液の調製
a 抽出法
検体を420μmの標準網ふるいを通るように粉砕した後,その20.0gを量り採り,水40mlを加え,2時間放置する。
これにアセトン100mlを加え,振とう機を用いて30分間激しく振り混ぜた後,静置し,ケイソウ土を1cmの厚さに敷いたろ紙を用いてすり合わせ減圧濃縮器中に吸引ろ過する。ろ紙上の残留物を採り,アセトン50mlを加え,振とう機を用いて30分間激しく振り混ぜた後,上記と同様に操作して,ろ液をその減圧濃縮器中に合わせ,40°以下で約20mlに濃縮する。
これをあらかじめ5%塩化ナトリウム溶液200ml及びn−ヘキサン100mlを入れた500mlの分液漏斗に移し,振とう機を用いて5分間激しく振り混ぜた後,静置し,n−ヘキサン層を300mlの三角フラスコに移す。水層にn−ヘキサン50mlを加え,上記と同様に操作して,n−ヘキサン層を上記の三角フラスコに合わせる。これに適量の無水硫酸ナトリウムを加え,時々振り混ぜながら15分間放置した後,すり合わせ減圧濃縮器中にろ過する。次いでn−ヘキサン20mlを用いて三角フラスコを洗い,その洗液でろ紙上の残留物を洗う操作を2回繰り返す。両洗液をその減圧濃縮器中に合わせ,40°以下でn−ヘキサンを除去する。
この残留物にアセトン30mlを加えて溶かし,凝固液50ml及びケイソウ土2gを加え,緩やかに振り混ぜた後,5分間放置し,ケイソウ土を1cmの厚さに敷いたろ紙を用いて吸引ろ過し,ろ液を300mlの分液漏斗に移す。次いでアセトン及び凝固液の混液(3:5)50mlを用いて上記の減圧濃縮器のナス型フラスコを洗い,その洗液でろ紙上の残留物を洗う。洗液を上記の分液漏斗に合わせる。これにn−ヘキサン50mlを加え,振とう機を用いて5分間激しく振り混ぜた後,静置し,n−ヘキサン層を300mlの三角フラスコに移す。水層にn−ヘキサン50mlを加え,上記と同様に操作して,n−ヘキサン層を上記の三角フラスコに合わせる。これに適量の無水硫酸ナトリウムを加え,時々振り混ぜながら15分間放置した後,すり合わせ減圧濃縮器中にろ過する。次いでn−ヘキサン20mlを用いて三角フラスコを洗い,その洗液でろ紙上の残留物を洗う操作を2回繰り返す。両洗液をその減圧濃縮器中に合わせ,40°以下でn−ヘキサンを除去する。この残留物にアセトン及びn−ヘキサンの混液(1:19)10mlを加えて溶かす。
b 精製法
内径15mm,長さ300mmのクロマトグラフ管に,カラムクロマトグラフィー用合成ケイ酸マグネシウム10gをアセトン及びn−ヘキサンの混液(1:19)に懸濁したもの,次いでその上に無水硫酸ナトリウム約5gを入れ,カラムの上端に少量のアセトン及びn−ヘキサンの混液(1:19)が残る程度までアセトン及びn−ヘキサンの混液(1:19)を流出させる。このカラムにa 抽出法で得られた溶液を注入した後,アセトン及びn−ヘキサンの混液(1:19)100mlを注入し,流出液は捨てる。次いでアセトン及びn−ヘキサンの混液(3:17)50mlを注入し,流出液をすり合わせ減圧濃縮器中に採り,40°以下でアセトン及びn−ヘキサンを除去する。この残留物にn−ヘキサンを加えて溶かし,正確に8mlとして,これを試験溶液とする。

6. 操作法
a 定性試験
次の操作条件で試験を行う。試験結果は標準品と一致しなければならない。
操作条件
カラム 内径0.53mm,長さ15mのケイ酸ガラス製の細管に,ガスクロマトグラフィー用メチルシリコンを1.5μmの厚さでコーディングしたもの。
カラム温度 260°
試験溶液注入口温度 300°
注入方式 スプリットレス
検出器 300°で操作する。
ガス流量 キャリヤーガスとしてヘリウムを用いる。ピラゾキシフェンが約11分で流出する流速に調整する。
b 定量試験
a 定性試験と同様の操作条件で得られた試験結果に基づき,ピーク高法又はピーク面積法により定量を行う。
c 確認試験
a 定性試験と同様の操作条件でガスクロマトグラフィー・質量分析を行う。試験結果は標準品と一致しなければならない。また,必要に応じ,ピーク高法又はピーク面積法により定量を行う。

7. 定量限界
0.01 mg/kg

8. 留意事項
なし

9. 参考文献
なし

10. 類型
A


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