平成２０年３月２８日
公開
第２回ヒトに対する有害性が明らかでない化学物質に対する労働者ばく露の
予防的対策に関する検討会及び第２回ナノマテリアルの安全対策に関する検
討会の合同会合の開催について
１．日 時：平成２０年４月４日（金） １５：００〜１７：００
２．場 所：厚生労働省5階共用第7会議室
東京都千代田区霞が関１−２−２
３．議 題：
（１）ナノマテリアルの範囲について
（２）ナノマテリアルの開発状況について
（３）ナノマテリアルの計測技術の開発について
（４）その他
４．出席者：当該検討会の構成員 他
５．傍聴希望者の受付
- 座席に限りがございますので、傍聴を希望される方は、報道関係の方も含め、4月2日（水）17:00までに、次の事項を記載してＦＡＸにてお申し込みください。
記載事項：「第2回ナノマテリアル合同会合の傍聴希望について」・傍聴希望者の氏名（ふりがな）・住所・電話番号・ＦＡＸ番号・（差し支えなければ）勤務先又は所属団体
- 申し込みされた方が多数の場合は、抽選となり、傍聴できない場合もあります。（傍聴できない方には、その旨ご連絡を差し上げます。）
- 傍聴の可能な方には、特段連絡は差し上げません。
- 傍聴者については、別紙の「傍聴される方へ」を厳守されますようお願いします。
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本件問い合わせ先： |
（別紙）
傍聴される方へ
- 事務局の指定した場所以外の場所に立ち入ることはできません。
- 静粛を旨とし、議事の妨害となるような行為は慎んでください。
- 携帯電話、ポケットベル等の電源は呼び出し音が出ないようにして傍聴してください。
- 会議中に、写真撮影、ビデオ撮影及び録音をすることはできません。
（報道関係者の写真撮影等は、会議冒頭の頭撮りに限り可） - 会議の開始前後を問わず、会議場内において、構成員等に対する抗議、陳情等はお断りします。
- その他、事務局職員の指示に従うようお願いします。