資料4−4

リスク評価物質のばく露の状況及び対策の方向性について

物質名 ばく露の状況 対策の方向性
エピクロロヒドリン

A測定、個人ばく露測定の双方において、一部の事業場においてRL(10−4)を超えるデータが見られるが、測定したいずれの事業場においても許容濃度以下であった。

事業者において、リスクアセスメントを実施し、引き続き適切な管理を行う。

塩化ベンジル

A測定、個人ばく露測定の双方において、RL(10−4)を超えるデータが見られるが、測定したいずれの事業場においても許容濃度以下であった。

事業者において、リスクアセスメントを実施し、引き続き適切な管理を行う。

1,3−ブタジエン

A測定においては、RL(10−4)を超えているが、測定したいずれの事業場においても許容濃度以下であった。

個人ばく露測定においては、許容濃度を大幅に超えるばく露が5データ見られるが、これは、1,3−ブタジエンの製造工程(A社4データ)及び合成ゴム工程(B社1データ)である。

個人ばく露が高いデータは、屋外でのサンプリング等の作業である。

ばく露の高いデータは、いずれも屋外での作業であるため、局所排気装置等の設置が困難な場合は、防毒マスク等の保護具の着用による作業を行う。

ばく露の低い作業については、リスクアセスメントを実施し、引き続き適切な管理を行う。

ホルムアルデヒド

A測定においては、RL(10−4)を超える事業場が多く、かつ、ACGIHの許容濃度(0.3ppm(天井値))を超える事例も3件あった。

個人ばく露測定においては、ACGIHの許容濃度を超えるばく露が14データあり、複数の事業場及び複数の作業において許容濃度を超える事例が見られた。

許容濃度を超えるデータは、屋内での作業であることから、密閉化、局所排気装置等の設置により適切に管理する。

労働者の健康管理については、ホルムアルデヒドを原因とするがんについて、特徴的な症状を検査することが困難なことに配慮しつつ適切な健康管理を行う。

硫酸ジエチル

A測定においては、測定したいずれの事業場においても硫酸ジメチルの許容濃度以下であった。

個人ばく露測定においては、硫酸ジメチルの許容濃度を大幅に超えるばく露が1データ見られるが、これは、他の製剤の製造作業におけるばく露である。

A測定においては、許容濃度を超えていないが、個人ばく露濃度が許容濃度を大幅に超えるデータが1データあることから、同様の作業においては密閉化等の措置を行う。

ばく露の低い作業については、リスクアセスメントを実施し、引き続き適切な管理を行う。


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